创建和编辑草图阵列的步骤
新特性：2025
使用“阵列”命令可创建草图几何图元的阵列，这些阵列包含或不包含有界区域。阵列几何图元受到完全约束，并且这些约束按组进行维护。如果删除阵列约束，所有对阵列几何图元的约束都将被删除。
如果删除阵列元素之间的关联关系，几何图元将不再是阵列，而是可以分别编辑的几何元素。
创建矩形阵列（二维草图）
在草图中，单击“草图”选项卡 “阵列”面板，然后单击“矩形”。
“矩形阵列”对话框将会打开，并且默认情况下“选择”模式处于激活状态。
在画布中，选择要阵列化的几何图元。
在“矩形阵列”对话框中，单击“方向 1”下的选择工具，然后选择几何图元以定义阵列的第一个方向。在画布中，箭头指示方向。
对于“方向 1”，在“数量”字段 中输入要创建多少元素，并在“间距”字段 中输入它们应相距多远。
注意：间距可以是参数表达式。
对于“方向 2”，重复步骤 3 和 4。
（可选）在“范围”部分中，单击“边界”，然后在画布中，在您定义的边界内单击。边界是绘制或投影的草图。指定有界阵列的包含方法。选择范围：
包含几何图元 - 完全位于边界内的所有阵列引用都用于阵列。
包含形心 - 形心位于边界内的所有阵列引用都用于阵列。
基点 - 单击基点选择器 ，然后选择引用上的基点，基点位于边界内的所有引用都用于阵列。若要重新定义基点，请单击选择器，然后选择其他点作为基点。请注意，选择新点后，选定对象将会更新。
（可选）展开 对话框，然后选择高级选项：
“抑制”。抑制您选择的元素。被抑制的元素不会包含在截面轮廓或工程图草图中。在使用几何图元的特征中，必须手动抑制元素。被抑制的元素在画布中以虚线显示。
“关联”。如果选中此选项，对零件进行更改时阵列将会更新。如果取消选中该选项，则会删除约束，并且在您更改元素时阵列不会更新。
“范围”。指定阵列元素是否均匀分布在指定的距离内。如果取消选中该选项，则阵列间距测量的是元素之间的距离，而不是阵列的总距离。
单击“确定”以创建阵列。
创建环形阵列（二维草图）
在草图中，单击“草图”选项卡 “阵列”面板，然后单击“环形”。
“环形阵列”对话框将会打开，并且默认情况下“选择”模式处于激活状态。
在画布中，选择要阵列化的几何图元。
在“环形阵列”对话框中，单击“轴”选择器，然后选择要定义为阵列轴的点、顶点或工作轴。在画布中，箭头指示轴。
在“数量”字段 中输入要创建多少元素，并在“角度”字段 中输入第一个阵列元素与最后一个阵列元素之间的度数。
注： 角度可以是参数表达式。
（可选）在“范围”部分中，单击“边界”，然后在画布中，在您定义的边界内单击。边界是绘制或投影的草图。指定有界阵列的包含方法。选择范围：
包含几何图元 - 完全位于边界内的所有阵列引用都用于阵列。
包含形心 - 形心位于边界内的所有阵列引用都用于阵列。
基点 - 单击基点选择器 ，然后选择引用上的基点，基点位于边界内的所有引用都用于阵列。若要重新定义基点，请单击选择器，然后选择其他点作为基点。请注意，选择新点后，选定对象将会更新。
（可选）展开 对话框，然后选择高级选项：
“抑制”。抑制您选择的元素。被抑制的元素不会包含在截面轮廓或工程图草图中。在使用几何图元的特征中，必须手动抑制元素。被抑制的元素在画布中以虚线显示。
“关联”。如果选中此选项，对零件进行更改时阵列将会更新。如果取消选中该选项，则会删除约束，并且在您更改元素时阵列不会更新。
“范围”。指定阵列元素是否均匀分布在指定的角度内。如果取消选中该选项，则阵列间距测量的是元素之间的角度，而不是阵列的总角度。
单击“确定”以创建阵列。
编辑矩形阵列和环形阵列
执行以下任意操作：
在画布中的阵列元素上单击鼠标右键，然后选择“编辑阵列”。在“矩形阵列”或“环形阵列”对话框中更改任何值，然后单击“确定”。
在画布中双击阵列尺寸以对其进行更改。
在画布中选择阵列或阵列元素，单击鼠标右键，然后根据选择的内容来选择以下任意选项：
“删除”。从草图中删除非阵列几何图元。
“删除阵列”。从草图中删除整个阵列。
“抑制元素”。使元素在草图中不可用。保留其余阵列元素之间的关系。被抑制的元素在画布中以虚线显示。
创建镜像阵列
1.在草图中，单击“草图”选项卡 “阵列”面板 “镜像”（二维）或“三维草图”选项卡 “阵列”面板 “镜像”（三维）。
“镜像阵列”对话框将会打开，并且默认情况下“选择”模式处于激活状态。
在画布中，选择要阵列化的几何图元。
在“镜像阵列”对话框中，单击“镜像线”（二维）或“镜像平面”（三维）下的选择工具，然后选择要以其为中心镜像几何图元的线或平面。
在画布中，蓝色箭头指示线或平面。
（可选，二维）如果要镜像的样条曲线与镜像线相交，请选择“自对称”创建以镜像线为对称线的单条样条曲线。
单击“应用”完成阵列并再次创建，或者单击“完毕”创建阵列并退出命令。